Jobbeschreibung
Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.
Heute wagen. Morgen begeistern.
Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.
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Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips.
Arbeiten, wo das Morgen entsteht.
Was darf bei keinem Smartphone fehlen?
Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.
Wissenschaftler für die Entwicklung von Oberflächenmesstechnik EUV High NA in der Abteilung Surface Figure Metrology EUV
Sie möchten den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Sie haben Erfahrung in der Entwicklung und Modellierung komplexer Systeme, haben Begeisterung für Hochtechnologie und Talent im Umgang mit Menschen? In der Gruppe Design & Algorithms EUV High NA der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten für die hochgenaue Bestimmung der Oberflächenform unserer EUV-Optiken. Unsere Aufgabe ist es, Konzepte und fertigungstaugliche Messprozesse zu entwickeln, beginnend mit ersten Ideen und der Technologieentwicklung bis hin zur Performanceabsicherung im Fertigungsbetrieb. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens.
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Sie entwickeln und optimieren optische Messsysteme mit höchsten Genauigkeitsanforderungen für die Qualifizierung von Lithographieoptiken
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Sie erarbeiten und bewerten Konzepte und Verfahren zur höchstgenauen optischen Oberflächenmessung, sie analysieren bestehende Verfahren und optimieren Durchsatz und Performance
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Sie konzipieren und optimieren Mess- und Kalibrierstrategien für komplexe Messsysteme, entwickeln und implementieren die benötigten Auswerte- und Kalibrieralgorithmen und führen sie in die Fertigung ein
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Sie untersuchen die Performance der betreuten Messtechniken mit experimentellen und theoretischen Methoden, erarbeiten Verbesserungsmaßnahmen und koordinieren deren Umsetzung
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Sie übernehmen die Leitung von Projekten in diesem Bereich und sorgen für eine erfolgreiche Umsetzung
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ein sehr gut abgeschlossenes wissenschaftliches oder technisches Studium (Physik, Maschinenbau, Data Science, technische Optik), vorzugsweise mit Promotion.
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gute Kenntnisse in technischer Optik oder optischer Messtechnik sind vorteilhaft
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Erfahrung in der datenbasierten Analyse komplexer Systeme
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ein hohes Maß an Teamfähigkeit, Eigenmotivation und Engagement
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gute Programmierkenntnisse, vorzugsweise in Python, und Erfahrungen im Release-Management von Softwarepaketen
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Interesse an der Organisation von Entwicklungsprojekten und der Koordination von Projekt-Teams
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Erfahrungen im Projektmanagement wünschenswert