Wissenschaftlicher Mitarbeiter für die Entwicklung von nasschemischen Reinigungsprozessen (m/w/x)

ZEISS

Jobbeschreibung
Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.

Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

Heute wagen. Morgen begeistern.

Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

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ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology

Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips ​

Arbeiten, wo das Morgen entsteht. ​

Was darf bei keinem Smartphone fehlen? ​

Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

  • Sie verantworten die Beschaffung und Inbetriebnahme einer neuen Reinigungsanlage basierend auf nasschemischen Reinigungsprozessen inkl. Überführung der Anlagen in die Serien-Produktion

  • Sie werden Prozesse zur Reinigung von Optik- und Mechanik-Komponenten zum Einsatz im UHV-Bereich entwickeln und zur Anwendung in der Serienfertigung qualifizieren

  • dazu leiten sie die entsprechenden Arbeitspakete und verantworten diese hinsichtlich Timing, Performance und Kosten in Abstimmung mit der entsprechenden Projektleitung

  • Sie werden die Untersuchung von Oberflächen auf organische, molekulare und partikuläre Kontaminationen anhand analytischer Methoden kontinuierlich weiterentwickeln

  • Sie werden Fehlerursachen bei Prozessabweichungen und Maschinenproblemen (bei Reinigungsprozessen und Reinigungsanlagen für Mechanik- und Optikbauteile) systematisch abstellen und im Trouble-Shooting-Fall unterstützen

  • Sie werden Lieferanten von Fertigungsanlagen bei Fragen zu Reinigungs- und Sauberkeitsthemen beraten und vor Ort unterstützen


  • Sie besitzen ein sehr erfolgreich abgeschlossenes Hochschulstudium in Naturwissenschaften wie beispielweise Chemie oder Physik, idealerweise mit Promotion

  • Sie haben nachgewiesene Erfahrung in der Entwicklung von komplexen Prozessen

  • Sie verfügen über Kenntnisse auf dem Gebiet der nasschemischen Reinigungsprozesse und der Oberflächenanalytik (XPS, Restgasanalyse, TOF-SIMS)

  • Erfahrungen auf dem Gebiet von Ultrahochvakuumtechnik sind von Vorteil

  • Sie bringen ein hohes Maß an Team- und Kooperationsfähigkeit mit

  • sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse runden Ihr Profil ab

Your ZEISS Recruiting Team:

Miriam Meyer, Oliver ReithView More