Jobbeschreibung

Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.

Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

Heute wagen. Morgen begeistern.

Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

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Ihre Rolle

Sie arbeiten im interdisziplinären Expertenteam „Repair Mask“ an der Entwicklung und Erforschung neuartiger Prozesse und Methoden zur Reparatur photolithografischer Masken, die in der Halbleiterindustrie eingesetzt werden. Die Maskenreparaturverfahren unserer MeRiT Repair Tool Produktlinie basieren auf gasunterstützten Elektronenstrahllithografie, d.h. geeignete Gase werden auf die Maskenmaterialien dosiert und adsorbiert, um dann sehr lokal mit einem fokussierten Elektronenstrahl modifiziert zu werden. Im Zentrum ihrer Arbeit stehen die physikalischen und chemischen Aspekte der jeweiligen elektronenstrahlinduzierten Prozesse und deren Optimierung im Sinne eines kundenorientierten Produktes. Sie nutzen leistungsfähige Analysemethoden wie z.B. Quadrupol-Massenspektrometie, energiedispersive Röntgenspektroskopie, hochauflösende Rasterelektronen- und Atomic-Force-Mikroskopien oder entwickeln ggf. passende Verfahren, um relevante Informationen zu extrahieren und darauf basierend neue Reparaturprozesse zu entwickeln. Ihre Tätigkeit beinhaltet:

• Entwicklung und Erforschung neuer Prozesse und Methoden zur Reparatur von photolithografischen Masken

• Entwicklungsarbeit selbstständig planen, organisieren und durchführen

• Systematische Dokumentation und Archivierung der Forschungs- und Entwicklungsarbeiten

• Arbeitsfortschritte dokumentieren, aufbereiten, berichten und präsentieren

• Unterstützung bei Kundenanfragen

Ihr Profil

• einen Abschluss in Natur- oder Ingenieurwissenschaften z.B. Chemie, Physik, Elektrotechnik, Mikrosystemtechnik (mit Promotion in einem experimentellen Arbeitsgebiet)

• einen Hintergrund in „Surface Science“, idealerweise mit chemischen Prozessen an Oberflächen, und/oder gasunterstützter Elektronenstrahllithografie

• Erfahrungen mit hochauflösenden mikroskopischen und ggf. spektroskopischen bzw. spektromikroskopischen Methoden.

• Kommunikationsstärke und Durchsetzungsfähigkeit

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